ОПИСАНИЕ
Двойная установка для нанесения покрытий методом магнетронного напыления на постоянном токе CY-300HD-2DC представляет собой экономически эффективное оборудование для нанесения покрытий методом магнетронного напыления. Он стандартизирован, модульный и настраиваемый. Вы можете выбрать 1-дюймовые или 2-дюймовые мишени магнетрона. Клиенты могут выбрать цель в зависимости от размера покрываемой подложки. Устройство оснащено двумя блоками питания постоянного тока мощностью 500 Вт. Источник питания постоянного тока можно использовать для подготовки металлической пленки. Эти две мишени могут удовлетворить потребности в многослойных или множественных покрытиях..
Установка оснащена двухканальным высокоточным массовым расходомером. Если у вас есть другие требования, вы можете настроить газовый тракт до четырехканальных массовых расходомеров в соответствии со сложными требованиями к конструкции газовой среды. Прибор оснащен усовершенствованными комплектами турбомолекулярных насосов, предельный вакуум составляет до 1,0E-5 Па, также другие типы молекулярных насосов доступны для покупки. Газовый тракт молекулярного насоса контролируется несколькими электромагнитными клапанами, вы можете открыть камеру, чтобы взять образец, не выключая насос, что значительно повышает эффективность вашей работы. Этот продукт может быть оснащен встроенным промышленным компьютером для управления системой. В компьютерной программе может быть реализовано большинство функций, таких как управление вакуумным насосом и управление мощностью распыления, что может еще больше повысить эффективность ваших экспериментов.
ПРИМЕНЕНИЕ
Это устройство можно использовать для изготовления однослойных или многослойных тонких сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов и т.п. По сравнению с аналогичным оборудованием установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двумя мишенями не только широко используется, но также имеет преимущества небольшого размера и простоты в эксплуатации и является идеальным оборудованием для подготовки пленок материалов в лаборатории.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Источник питания напылителя | Источник питания постоянного тока, 500 Вт, 2 шт. |
| Рабочая камера |
|
| Головка мишения магнетронного распыления | В приборе установлены 2 магнетронные распылительные головки, и все они оснащены водоохлаждаемой прослойкой для охлаждения материала мишени. Две распылительные головки подключены к источнику питания постоянного тока, а основной распылитель токопроводящий. |
| Предметный стол | Размер держателя образца: Ø140 мм. (Можно разместить подложку до 4"). Держатель образца можно вращать со скоростью: 1–20 об/мин (регулируемая). Максимальная температура нагрева держателя образца составляет 500 ℃, а точность контроля температуры составляет +/- 1.0°С |
| Регулятор расхода газа | Внутри прибора установлены 2 массовых расходомера, диапазон: 0-200 см3/мин |
| Вакуумный насос | Оснащен набором молекулярной насосной системы с управлением одной кнопкой, 80 л/с. |
| Чиллер | Поток 16л/мин |
| Источник питания | 220-240В, однофазный, 50/60Гц |
